ПОЛИРОВАНИЕ (от лат. polio-делаю гладким), чистовая обработка пов-сти разл. материалов для уменьшения ее шероховатости (высоты микронеровностей) до величины менее 0,1 мкм, создания определенных свойств (высокого коэф. отражения, декоративного блеска), очистки от загрязнений, получения точных размеров изделия и ненарушенной структуры приповерхностного слоя материала. полирование осуществляют: локальным срезанием тончайших слоев материала абразивными зернами, закрепленными в полировальнике или эластичной ленте (механическое полирование); растворением в полирующих травителях (химическое полирование); совместным хим. и мех. воздействием на обрабатываемую пов-сть спец. суспензий (химико-механическое полирование, используется при обработке полупроводниковых и некоторых др. материалов); электролитич. травлением (электрохимическое полирование); хим. реакциями с газовыми травителями (газовое химическое полирование).
Механическое полирование используют в машино- и приборостроении для обработки деталей из металлов. сплавов. оптич. стекла, пластмасс. в микроэлектронике для обработки заготовок из полупроводниковых и диэлектрич. материалов и материалов подложек. Плоские заготовки наклеивают на планшайбы и затем устанавливают на приводимый во вращение полировальник-диск, покрытый тканым (сукно, батист, сатин) или нетканым (искусств. кожа. замша, полиуретан) материалом. Он должен иметь высокую износо-и теплостойкость и обеспечивать закрепление абразивных зерен в своих порах или ворсе. На полировальник наносят абразивную суспензию, приготовленную на основе порошковалмаза. карбидов В4С и SiC, корунда А12О3, оксидов Fe2O3, CeO2 и Сr2О3 с размером зерен от 0,2 до 5 мкм. При механическом полирование деталей круглой или сложной формы применяют цилиндрич. полировальники или эластичные ленты.
Химическое полирование осуществляют во вращающейся вокруг своей оси заполненной травителем емкости, в которую загружают одну или неск. заготовок, а также др. способами.
Химико-механическое полирование проводят так же, как механическое полирование, но суспензии приготовляют на основе порошков SiO2 и ZrO2, взвешенных в растворах щелочей. Щелочи с обрабатываемым материалом образуют соед. с меньшей твердостью. чем сам материал, которые удаляются при контакте с полировальником и абразивными зернами.
Электрохимическое полирование проводят в ваннах с растворами щелочей. кислот и солей, пропуская электрич. ток через анод-заготовку и электролит.
Газовое химическое полирование используют для удаления с пов-сти кремниевых пластин загрязнений и слоя материала с нарушенной структурой. В реактор подают галогенсодер-жащие газы, например НС1, и в результате реакции Si + 4HC1 : : SiCl4+ 2Н2 при температуре ок. 1200°С происходит травление кремния. См. также Полироли, Травление.
